外媒報導指出，中國已開始製造自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，預計今年交付中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲等中國晶片廠，試圖打破荷蘭設備大廠ASML長期主導地位。消息曝光後，ASML股價一度下跌，也在PTT股板掀起熱烈討論。
根據報導，這批國產DUV曝光機初期產量有限，今年預估僅約5台，2027年可望增加至約20台。報導也提到，該設備目前在性能與可靠性方面仍落後於ASML，大規模量產前仍需更多測試，因此ASML現階段的競爭優勢暫時不受影響。
貼文發布後，不少網友對消息保持觀望，留言表示「良率出來再說」、「去年年底就吹過了= =」、「這些配合 法人出鬼故事的媒體真的很噁心」、「下跌找理由而已啦」，認為市場可能只是藉消息放大利空情緒。
另一派網友則認為，中國半導體技術仍可能持續進步，留言「生命會找到出路的」、「中國只要搞出一台 遊戲就結束了 護城河也沒了」、「中國的進步又讓某些人如喪考妣了XD」、「永遠不要小看對手 龜兔賽跑的故事到現在都適用」，認為仍值得持續觀察後續發展。
此外，也有不少人聚焦在技術成熟度與實際量產能力，留言「DUV也20幾年 只是要做出堪用的 還是落後太多」、「做出來不是問題，精度與可靠度問題而已」、「以這數量來說到底在殺什麼==」，顯示市場對這項消息究竟代表技術突破，還是短期市場情緒催化，仍存在明顯分歧。